Die von uns angebotenen Verfahren der Ionenstrahltechnik und Blitzlampentemperung eignen sich für vielfältigste Anwendungsgebiete, die von der Halbleitertechnologie, Glasbeschichtung bis hin zu innovativen Druckverfahren für die flexible Elektronik reichen.
Ion Beam Services
Wir bieten Ihnen ein breites Spektrum an Ionenstrahlverfahren im Energiebereich von 1 keV bis 20 MeV. Moderne Waferhandlingsysteme erlauben die Behandlung bei hohen Durchsätzen. Individuell angepasste Rezepte können für Einzelwafer ausgeführt werden.
Flash Lamp Annealing
Das Verfahren der Blitzlampentemperung eignet sich für vielfältigste Anwendungsgebiete, die von der Halbleitertechnologie, Glasbeschichtung bis hin zu innovativen Druckverfahren für die flexible Elektronik reichen. Der Vorteil des Blitzlampentemperverfahrens besteht in der oberflächigen Aufheizung der Probe, ohne dass dabei das Substrat selbst erwärmt wird.
Der Vorteil des Blitzlampentemperverfahrens besteht weiterhin in der Kombination chemischer und thermischer Effekte. Ausserdem kann das Verfahren durch den Einsatz von Masken oder Filtern auch lokal eingesetzt werden und damit eine selektive thermische Behandlung erfolgen – ein wesentlicher Vorteil zu anderen konventionellen Temperverfahren. Für den Einsatz im Bereich der Drucktechniken ermöglicht die Blitzlampentemperung sowohl Trocknungs- als auch Sinterprozesse.
Consulting
In Kooperation mit diversen Forschungseinrichtungen bieten wir Ihnen ein umfangreiches Portfolio an Analytikdienstleistungen an und erstellen für Sie Gutachten zu Material- und Oberflächenanalysen.